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真空设备：工业隐形支柱
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短时多脉冲HiPIMS技术&低偏压、低应力的DLC薄膜
DOMS（短时多脉冲HiPIMS技术）的18个连续短振荡显著减少了离子回吸，并利用脉冲间残留等离子体促进再点燃，使到达基底的碳离子流密度提高至4倍，从而实现离子辅助沉积。
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表面改性：重塑材料界面性能
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镀膜电源是什么?
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微观外衣：镀膜工艺重塑表面世界
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真空镀膜：微观表面改性关键技术
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同步浮置电位HiPIMS工艺&实现薄膜在绝缘基底上的低温沉积
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HIPiMS技术是什么?
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关键词
光纤金属化宇航级密封性能
窄缝内孔镀CrCN
光纤金属化
镀膜工艺
直管DLC涂层
磁控电源
手表装饰DLC涂层
HiPIMS设备
HiPIMS铁氧体金属化
耐磨防腐DLC涂层
镀膜电源
管道内壁PECVD镀膜设备
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