HIPiMS技术,真空镀膜,镀膜工艺,镀膜电源,表面改性,真空设备,DLC涂层 - 新闻动态

脉冲磁控溅射是采用矩形波电压的脉冲电源代替传统直流电源进行磁控溅射沉积。脉冲磁控溅射技术可以有效的抑制电弧产生进而消除由此产生的薄膜缺陷，同时可以提高溅射沉积速率，降低沉积温度等一系列显著优点。

公司技术支撑团队有7篇文章选登《中国表面工程》杂志“高离化磁控技术与应用”专刊，彰显新铂科技在高功率磁控溅射方面有较多的技术积累。

自1852年，格洛夫发现阴极溅射现象，对于溅射技术的运用便逐步发展起来，从上世纪80年代至今，磁控溅射技术在表面工程领域占据举足轻重的地位。磁控溅射技术可制备超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜，以及各种具有特殊功能的薄膜，是一种十分有效的薄膜沉积方法。

真空蒸镀法与溅射镀膜技术不同区别的介绍
一、真空蒸镀法
真空蒸镀是将装有基片的真空室抽成真空,然后加热被蒸发的镀料,使其原子或分子从表面气化逸出,形成蒸气流,入射到基片表面,凝结形成固体薄膜的技术.

真空镀膜是一种常见的表面处理工艺，常用于制造光学镜片、太阳能电池板、LED等产品。其主要流程包括以下几个步骤：

1. 基材清洗：将待处理的基材表面进行清洗，以去除表面的油污、灰尘等杂质，确保表面干净。

在Nb靶氧反应溅射时，用合适的HiPIMS脉冲波形可以抑制进气迟滞回线，在没有气体控制器下同样能保证工艺稳定性。

HiPIMS-400是新铂科技针对高校镀膜实验需求设计的一款高功率脉冲磁控溅射电源。可以实现脉冲+直流的组合输出。

对于真空弧放电下的弧斑导致的阴极材料的腐蚀研究其实由来已久。对于真空弧放电下的弧斑主要有两种，一种是移动较快、较小、较暗的弧斑，主要发生在较脏的靶面和氧化的靶面；另一种是移动较慢、较大较亮的弧斑，其主要发生在干净和惰性气体放电时的靶面。