HIPiMS技术,真空镀膜,镀膜工艺,镀膜电源,表面改性,真空设备,DLC涂层 - 新闻动态

原子层沉积（ALD）技术：具有原子级的厚度控制精度和优异的膜层均匀性，可在复杂形状的基底上实现高质量镀膜。目前在半导体、微电子等领域应用广泛，如用于制备高介电常数的超薄绝缘层，以提高晶体管性能和降低功耗

针孔是真空镀膜中较为常见的问题。这主要是由于镀膜材料在沉积过程中，基片表面的微小杂质、灰尘或者气体残留所导致。例如，在蒸发镀膜时，如果基片清洗不够彻底，表面残留的颗粒会使镀膜材料在其周围无法均匀沉积，形成针孔。

致密度更高：高能脉冲PVD在沉积过程中，能够产生高密度的等离子体，使沉积粒子具有更高的能量，从而在基底上形成更致密的膜层。例如，在制备硬质涂层时，其形成的膜层结构更加紧密

如氮化钛（TiN）膜层。TiN具有高硬度、良好的耐磨性和化学稳定性。在刀具涂层领域应用广泛，通过高能脉冲PVD技术制备的TiN膜层，能够显著提高刀具的使用寿命。

PVD是在高温下将靶材蒸发后沉积到工件表面形成镀膜的技术。高能脉冲PVD是PVD技术的一种改进形式，它的基本物理原理如下：

12月14日，由松山湖材料实验室、哈尔滨工业大学材料结构精密焊接与连接全国重点实验室以及等离子体放电团队孵化的高能脉冲PVD电源企业新铂科技(东莞)有限公司联合主办的“2024大湾区高能脉冲PVD高峰论坛”在松山湖材料实验室会议中心成功举行。

12月14日，“2024大湾区高能脉冲PVD论坛”在松山湖材料实验室举办。此次论坛由松山湖材料实验室、材料结构精密焊接与连接全国重点实验室联合举办，由高能脉冲PVD电源的领军企业新铂科技东莞有限公司提供支持。

12月14日，来自高校、中国科学院、企业的250多名代表齐聚东莞“2024大湾区高能脉冲PVD高峰论坛”，共同研讨高能脉冲PVD（真空镀膜）领域的研究成果和未来发展趋势。论坛由松山湖材料实验室、材料结构精密焊接与连接全国重点实验室、新铂科技（东莞）有限公司联合举办。