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高能弧优势

增强了电子发射,进而获得高的等离子体密度,离化率高、沉积速率高,这将有助于增加膜层致密性、降低膜层应力;可低温沉积,降低工件的热应力,提高工件的寿命;


可抑制阴极弧靶中毒、改善膜层结构、控制膜层颗粒污染;增加电弧稳定性和提高靶材利用率;


新铂新型脉冲阴极弧电源,实现了脉冲增强电子发射以提高真空室内等离子体密度。该电源核心由脉冲发射和维持电流系统构成,由单片机和触摸屏系统协同控制和管理,具有灭弧检测、自动重启,过流保护、过热控制和故障检测功能


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