hipims脉冲电源控制模式

HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）脉冲电源控制模式是一种在薄膜沉积技术中广泛应用电源控制方式。

真空镀膜时为什么要用到高纯气体

真空镀膜时用到高纯气体的原因，可以归结为以下几点，下面将进行详细阐述：
一、减少杂质影响，提升薄膜质量

HiPIMS放电制备纯金属薄膜的优势

怎样提高高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）沉积速率？电源、磁场、工艺自身！

镀膜电源是什么

镀膜电源是一种用于镀膜过程中的电力供应系统。它为镀膜工艺中的电解槽提供所需的电能，使金属离子在电解过程中沉积到基材上，形成一层薄膜。

管道结垢难题有解了！DLC薄膜助力石油行业发展！

在石油行业，人们正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以将原油的生产效率提高10%~15%。然而，随着石油产量的增加，也面临着更多的挑战，管道腐蚀是其中之一。对于二氧化碳增强采收率（EOR）技术，生产油水混合物因高压与二氧化碳过饱和而酸化，

高引燃脉冲新HiPIMS模式下薄膜摩擦系数可降低到0.25

多层薄膜能显著改善复杂环境下部件的性能和寿命，为获得性能良好的膜层，研发团队提出了一种高引燃脉冲新HiPIMS放电技术。增加引燃脉冲的个数，强化了膜层的结合力，硬度以及摩擦磨损的性能。

新HiPIMS放电模式制备薄膜表面粗糙度仅为4.123nm

为获得HiPIMS的高离化率-高沉积速率技术特征，我们在研究中提出一种新型的HiPIMS放电模式，即电-磁场协同增强HiPIMS技术，该技术以外置电场和磁场双场协同增强常规HiPIMS放电，增加溅射粒子离化率，改善薄膜的的沉积速率，制备的膜层性能优异。