新铂科技-生态分享（1）hipims-SiO2

用Hipims制备Cr保护膜 Hipims-Cr

用Hipims正脉冲 低温获得立方Y2O3高温相 文献中实验室小靶Hipims的案例分享（3）Hipims-Y2O3

HiPIMS沉积Nb薄膜——-300V偏压下实现30%再溅射率与薄膜近乎平面化

采用HiPIMS+DC偏压（-50至-300V），在沟槽Si基底上沉积Nb薄膜。-300V偏压下实现30%再溅射率，离子入射角FWHM从11°缩至3°，归一化峰高随离子能量指数衰减，基底形貌影响被有效去除

HiPIMS沉积DLC-Si薄膜——海水中摩擦系数0.083&腐蚀电流3.397×10⁻⁸A/cm²

采用HiPIMS技术，通过HMDSO气体流量调控Si含量。Si含量9.26at.%时，DLC-Si薄膜在海水中摩擦系数低至0.083，磨损率4.689×10⁻⁷mm³/(N·m)；腐蚀电流3.397×10⁻⁸ A/cm²，较304不锈钢基体降低3个数量级

HiPIMS沉积CrAlCN纳米复合涂层——硬度46.6 GPa&磨损率0.11×10⁻⁶ mm³/(N·m)

采用HiPIMS技术，通过调控Al靶电流和C₂H₂流量，获得CrAl₁₅₀C₅N₃₀涂层。该涂层硬度高达46.6 GPa，结合力Lc2 > 100 N，对AISI 52100钢球磨损率低至0.11×10-6mm³/(N·m)，比未涂层WC基体降低3.8倍

HiPIMS沉积TiN氢渗透屏障——阻隔效率56.9%&扩散系数降低3.8倍

采用HiPIMS在SAE 1020碳钢上沉积TiN薄膜，氢渗透滞后时间从153 s增至570 s，有效扩散系数从1.03×10-9降至2.68×10-10 m²/s，稳态渗透电流密度从约50降至21.5 μA/cm²，阻隔效率达56.9%，渗透衰减因子PRF为2.32

分级TiAlN/CrN涂层——硬度37.71 GPa&附着力81.85 N

采用HiPIMS在WC-Co上沉积具有界面嵌套结构的分级TiAlN/CrN涂层：亚微米TiAlN/CrN交替层作为宏观骨架，约0.3 μm，界面处嵌套约5 nmTiAlN/CrN超晶格过渡层。涂层硬度达37.71 GPa，附着力81.85 N（比TiAlN单层提高56.3%），磨损率低