表面处理技术专家

全球领先,12m超长管道镀膜技术

新铂科技专注于高功率脉冲等离子体真空镀膜技术

  • 电源

    HiPIMS电源,P3E电源, 100KHz偏压电源

  • 设备

    高功率磁控PVD设备
    高能脉冲弧PVD设备、管道PECVD镀膜设备

  • 工艺

    DLC、CrN、CrTiN、TiSiCN、CrAlSiCN

产品及解决方案

应用案例

about us

关于新铂

公司简介

新铂科技(东莞)有限公司成立于2020 年底,是新铂科技的主要生产基地,具有4条组装生产线和5条检测调试线,厂房面积2000+,现有员工20+。是国内专业从事真空镀膜系统的研发、制造、销售为一体的国家级高新技术企业。其研发中心位于东莞市松山湖大学创新城,其研发人员均为硕士以上学历(其中博士6人),在相关领域发表学术论文300余篇。

  • 60%

    研发人员占比

  • 300+

    发布学术论文

  • 4.5星级

    客户好评

  • 50+

    课题合作研发

  • 20+

    定制开发项目

公司简介

企业荣誉

新闻中心



真空磁控溅射涂层技术与真空蒸发涂层技术的区别

上海真空磁控溅射涂层技术与真空蒸发涂层技术的区别

真空磁控溅射涂层技术不同于真空蒸发涂层技术。溅射是指核能颗粒轰击固体表面(目标),使固体原子或分子从表面射出的现象。...


HiPIMS自组织放电高分辨光谱影像学

上海HiPIMS自组织放电高分辨光谱影像学

因磁场约束,以及超高功率放电,高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)在放电过程中会存在局部放电增强而导致辉光闪烁的不稳定现象。当不稳定辉光存在时,其放电状态也有很大差异,辉光会形成不同的放电组织和斑图形式。伴随着这些增强型斑图辉光放电,其内部粒子成分放电状态如激发与电离存在差异,如何直观研究这些变化,高分辨光谱影像学是一种有效的手段,可直观观察不稳定区域的放电形式与变化。...

  • 高引燃脉冲新HiPIMS模式下薄膜摩擦系数可降低到0.25

    上海高引燃脉冲新HiPIMS模式下薄膜摩擦系数可降低到0.25

    多层薄膜能显著改善复杂环境下部件的性能和寿命,为获得性能良好的膜层,研发团队提出了一种高引燃脉冲新HiPIMS放电技术。增加引燃脉冲的个数,强化了膜层的结合力,硬度以及摩擦磨损的性能。...

    2023-05-23 14:12:41   |   →
  • 新HiPIMS放电模式制备薄膜表面粗糙度仅为4.123nm

    上海新HiPIMS放电模式制备薄膜表面粗糙度仅为4.123nm

    为获得HiPIMS的高离化率-高沉积速率技术特征,我们在研究中提出一种新型的HiPIMS放电模式,即电-磁场协同增强HiPIMS技术,该技术以外置电场和磁场双场协同增强常规HiPIMS放电,增加溅射粒子离化率,改善薄膜的的沉积速率,制备的膜层性能优异。...

    2023-05-17 10:45:58   |   →
  •  真空镀膜工艺流程

    上海 真空镀膜工艺流程

    真空镀膜是一种常见的表面处理工艺,常用于制造光学镜片、太阳能电池板、LED等产品。其主要流程包括以下几个步骤: 1. 基材清洗:将待处理的基材表面进行清洗,以去除表面的油污、灰尘等杂质,确保表面干净。...

    2023-04-10 11:18:26   |   →
  • 新铂校园版电源上线

    上海新铂校园版电源上线

    HiPIMS-400是新铂科技针对高校镀膜实验需求设计的一款高功率脉冲磁控溅射电源。可以实现脉冲+直流的组合输出。...

    2023-03-07 14:02:57   |   →

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