上海真空电源从“Nokia”到“Iphone”
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目前制备硬质合金涂层主要可采用PVD方式,而PVD沉积除磁控放电外,还有阴极弧放电进行涂层PVD沉积,相比磁控,阴极弧放电结构简单,已广泛应用于各种涂层技术的制备,如装饰镀层,其工艺沉积速率快。随着工艺的要求逐渐提高,硬质合金涂层在硬度等方面提出了更高的要求,...
HiPIMS放电,由于工作在放电曲线的特殊区域,其放电特性不仅依赖于使用的气压、电压,更依赖于靶材。更由于HiPIMS工作模式是脉冲工作,其放电特性具有时间特征,而表现出不同的放电特性。这里我们选用常用的几种靶材(Cu,Cr,Mo,Ti,V和C),给出了他们的放电特性。这种与时间相关的放电特性,对于工艺设计是非常重要的。...
一种新型的高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术,即放电由脉宽短、电压高的引燃脉冲和脉宽长、电压低的工作脉冲2部分组成的双脉冲高功率脉冲磁控溅射技术,目的是解决传统高功率脉冲磁控溅射沉积速率低的问题。...
在Nb靶氧反应溅射时,用合适的HiPIMS脉冲波形可以抑制进气迟滞回线,在没有气体控制器下同样能保证工艺稳定性。...
因磁场约束,以及超高功率放电,高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)在放电过程中会存在局部放电增强而导致辉光闪烁的不稳定现象。当不稳定辉光存在时,其放电状态也有很大差异,辉光会形成不同的放电组织和斑图形式。伴随着这些增强型斑图辉光放电,其内部粒子成分放电状态如激发与电离存在差异,如何直观研究这些变化,高分辨光谱影像学是一种有效的手段,可直观观察不稳定区域的放电形式与变化。...
多层薄膜能显著改善复杂环境下部件的性能和寿命,为获得性能良好的膜层,研发团队提出了一种高引燃脉冲新HiPIMS放电技术。增加引燃脉冲的个数,强化了膜层的结合力,硬度以及摩擦磨损的性能。...
为获得HiPIMS的高离化率-高沉积速率技术特征,我们在研究中提出一种新型的HiPIMS放电模式,即电-磁场协同增强HiPIMS技术,该技术以外置电场和磁场双场协同增强常规HiPIMS放电,增加溅射粒子离化率,改善薄膜的的沉积速率,制备的膜层性能优异。...
真空镀膜是一种常见的表面处理工艺,常用于制造光学镜片、太阳能电池板、LED等产品。其主要流程包括以下几个步骤: 1. 基材清洗:将待处理的基材表面进行清洗,以去除表面的油污、灰尘等杂质,确保表面干净。...