长三角HiPIMS,低温ITO沉积的机会!
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磁控溅射作为一种物理 气相沉积(PVD)技术,在材料科学与工程领域有着广泛的应用。它通过结合电场和磁场的作用,提高了溅射过程中的粒子利用率和沉积效率。磁控溅射可以根据不同的分类标准分为多种类型,每种类型都有其独特的工作原理和适用范围。以下是一些常见的磁控溅射种类及其工作原理概述:...
在展示区展出了新铂等离子体镀膜工艺成品与电源设备,让参展的嘉宾与展商皆感叹新铂科技在真空应用领域技术实力!...
2023年6月27-29日,在深圳国际会展中心20号馆举办了2023国际新材料展(MATERIALS.CN)...
通过脉冲电源产生高密度等离子体来溅射靶材,从而在基材上沉积高质量的薄膜。HIPIMS技术相比于传统的直流磁控溅射技术,能够提供更高的离子化率、更好的薄膜质量和更强的薄膜与基底间的附着力。下面我们来探讨HIPIMS放电等离子体的主要特性。...
HIPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering,高功率脉冲磁控溅射)薄膜沉积方法,它在沉积TiSiN纳米复合涂层方面展现出显著的优势。与传统的直流磁控溅射(DCMS)技术相比,...
HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)脉冲电源与DC(Direct Current)电源相比,在多个方面展现出显著的优势。以下是对这些优势的详细分析:...
在石油行业,人们正在努力提高原油回收效率。例如,注入二氧化碳可以将原油的生产效率提高10%~15%。然而,随着石油产量的增加,也面临着更多的挑战,管道腐蚀是其中之一。对于二氧化碳增强采收率(EOR)技术,生产油水混合物因高压与二氧化碳过饱和而酸化,...
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS, High Power Impulse Magnetron Sputtering)是一种薄膜沉积技术,其特点是使用高功率脉冲对靶材进行激发,以提高溅射过程的离子化程度和沉积速率。...
HIPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering,高功率脉冲磁控溅射)物理 气相沉积(PVD)技术,它通过使用高峰值功率和低占空比的脉冲电源来实现材料的溅射。...
HIPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)脉冲电源控制模式是一种在薄膜沉积技术中广泛应用电源控制方式。...