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HiPIMS技术解决碳基涂层

HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)技术是一种先进的物理相沉积(PVD)技术,广泛用于解决碳基涂层的相关问题。碳基涂层是一种重要的功能性涂层,应用于各种工业领域,包括刀具、模具、汽车零部件等。下面将详细介绍HiPIMS技术如何解决碳基涂层的问题。

HiPIMS技术解决碳基涂层

HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)技术是一种用于制备碳基涂层的先进技术。碳基涂层是一种由碳元素构成的薄膜,具有许多优异的性质和应用。以下是关于HiPIMS技术解决碳基涂层的一些信息

镀膜工艺技术分类和理论

镀膜工艺技术是一种将薄膜或涂层沉积在基材表面的技术,以改变其表面性能或增加其功能。它在工业生产和科学研究中具有广泛的应用,从电子设备到汽车零件,再到医疗器械,都离不开镀膜技术。镀膜技术按照不同的原理和方法可分为多种分类。

真空镀膜设备原理

真空镀膜设备是一种用于在物体表面进行薄膜镀层的设备,常见于电子、光学、汽车、装饰等行业。其原理主要基于真空蒸发或磁控溅射等技术,以下是真空镀膜设备的基本原理:

真空镀膜pvd的工艺流程

 真空镀膜是一种常用的表面处理技术,用于在各种材料表面形成薄膜。下面是真空镀膜(PVD)的典型工艺流程。

hipims技术是物理还是化学

 HIPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)技术是一种物理上的表面处理技术,它结合了直流磁控溅射(DCMS)和脉冲功率供应,以实现更高的能量和离子密度。

镀膜工艺技术分类和理论

镀膜工艺技术是一种将薄膜沉积在基材表面的工艺过程,以增强基材的功能和性能。根据不同的工艺原理和沉积方法,可以将镀膜工艺技术分为不同的分类。以下是关于镀膜工艺技术分类和理论的简要说明:

真空镀膜电源为什么一定要接地?

真空镀膜电源之所以需要接地是为了确保安全性和保护设备运行的稳定性。