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珠三角HiPIMS，低温ITO沉积的机会！
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关于新铂
新铂科技（东莞）有限公司成立于2020 年底，是新铂科技的主要生产基地，具有4条组装生产线和5条检测调试线，厂房面积2000+，现有员工20+。是国内专业从事真空镀膜系统的研发、制造、销售为一体的国家级高新技术企业。其研发中心位于东莞市松山湖大学创新城，其研发人员均为硕士以上学历（其中博士6人），在相关领域发表学术论文300余篇。
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60%
研发人员占比
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300+
发布学术论文
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4.5星级
客户好评
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50+个
课题合作研发
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20+个
定制开发项目
企业荣誉
新闻中心
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珠三角点击关注，了解最前沿的真空应用技术，跟随新铂科技走向未来！
在展示区展出了新铂等离子体镀膜工艺成品与电源设备，让参展的嘉宾与展商皆感叹新铂科技在真空应用领域技术实力！...
- 2023-08-19 09:21:58 | →
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珠三角新铂科技参加2023国际新材料展
2023年6月27-29日，在深圳国际会展中心20号馆举办了2023国际新材料展(MATERIALS.CN)...
- 2023-06-30 13:45:56 | →
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珠三角HIPiMS技术高能磁控电源输出线有什么注意事项？
一、电源输出线离腔体尽量近，电源线尽量短为了保证脉冲电流波形引入到真空腔体时波形不畸变，且衰减小。期望在系统中，脉冲电镀电源与真空腔体的距离2-3m为佳，长线易对脉冲电流波形的上升、下降沿产生较大的影响，真空腔体打火时，灭弧效果有影响。二、正负极导线使用同轴线缆或者双绞屏蔽脉冲电源的输出衔接，导线间的电感效应越小越好。因而阴、阳极导线最好的办法就是同轴无感线缆。...
- 2023-09-21 10:54:06 | →
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珠三角耗散功率竟然能影响铜溅射等离子体的行为！
本文研究了在铜溅射等离子体中耗散功率对其影响的实验结果。通过光发射光谱技术进行测量，探讨了耗散功率对铜溅射等离子体的物理特性和行为的影响。 通过实验结果发现，耗散功率的增加导致铜溅射等离子体中的电子温度和密度的增加。此外，还观察到了溅射过程中的辐射特性和粒子输运行为的变化。...
- 2023-08-04 09:18:18 | →
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珠三角一文读懂溅射沉积技术
溅射镀膜是指在真空室中，利用荷能粒子轰击靶材表面，通过粒子动量传递打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基体上形成薄膜的技术。溅射镀膜技术具有可实现大面积快速沉积，薄膜与基体结合力好，溅射密度高、针孔少，膜层可控性和重复性好等优点，而且任何物质都可以进行溅射，因而近年来发展迅速，应用广泛。...
- 2023-07-17 14:19:58 | →
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珠三角真空镀膜和电镀的区别
真空镀膜和电镀都是常见的表面处理技术，用于改善物体外观和性能。它们有一些共同点，但也存在着一些明显的区别。下面我将详细介绍这两种技术的区别。...
- 2023-07-13 08:54:42 | →
珠三角管道结垢难题有解了！DLC薄膜助力石油行业发展！
在石油行业，人们正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以将原油的生产效率提高10%~15%。然而，随着石油产量的增加，也面临着更多的挑战，管道腐蚀是其中之一。对于二氧化碳增强采收率（EOR）技术，生产油水混合物因高压与二氧化碳过饱和而酸化，...
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珠三角管道结垢难题有解了！DLC薄膜助力石油行业发展！
在石油行业，人们正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以将原油的生产效率提高10%~15%。然而，随着石油产量的增加，也面临着更多的挑战，管道腐蚀是其中之一。对于二氧化碳增强采收率（EOR）技术，生产油水混合物因高压与二氧化碳过饱和而酸化，...
- 2023-07-18 08:46:00 | →
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珠三角高引燃脉冲新HiPIMS模式下薄膜摩擦系数可降低到0.25
多层薄膜能显著改善复杂环境下部件的性能和寿命，为获得性能良好的膜层，研发团队提出了一种高引燃脉冲新HiPIMS放电技术。增加引燃脉冲的个数，强化了膜层的结合力，硬度以及摩擦磨损的性能。...
- 2023-05-23 14:12:41 | →
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珠三角新HiPIMS放电模式制备薄膜表面粗糙度仅为4.123nm
为获得HiPIMS的高离化率-高沉积速率技术特征，我们在研究中提出一种新型的HiPIMS放电模式，即电-磁场协同增强HiPIMS技术，该技术以外置电场和磁场双场协同增强常规HiPIMS放电，增加溅射粒子离化率，改善薄膜的的沉积速率，制备的膜层性能优异。...
- 2023-05-17 10:45:58 | →
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珠三角 真空镀膜工艺流程
真空镀膜是一种常见的表面处理工艺，常用于制造光学镜片、太阳能电池板、LED等产品。其主要流程包括以下几个步骤： 1. 基材清洗：将待处理的基材表面进行清洗，以去除表面的油污、灰尘等杂质，确保表面干净。...
- 2023-04-10 11:18:26 | →