新铂科技-生态分享（1）hipims-SiO2

用Hipims制备Cr保护膜 Hipims-Cr

用Hipims正脉冲 低温获得立方Y2O3高温相 文献中实验室小靶Hipims的案例分享（3）Hipims-Y2O3

HiPIMS沉积CrAlCN纳米复合涂层——硬度46.6 GPa&磨损率0.11×10⁻⁶ mm³/(N·m)

采用HiPIMS技术，通过调控Al靶电流和C₂H₂流量，获得CrAl₁₅₀C₅N₃₀涂层。该涂层硬度高达46.6 GPa，结合力Lc2 > 100 N，对AISI 52100钢球磨损率低至0.11×10-6mm³/(N·m)，比未涂层WC基体降低3.8倍

HiPIMS沉积TiN氢渗透屏障——阻隔效率56.9%&扩散系数降低3.8倍

采用HiPIMS在SAE 1020碳钢上沉积TiN薄膜，氢渗透滞后时间从153 s增至570 s，有效扩散系数从1.03×10-9降至2.68×10-10 m²/s，稳态渗透电流密度从约50降至21.5 μA/cm²，阻隔效率达56.9%，渗透衰减因子PRF为2.32

分级TiAlN/CrN涂层——硬度37.71 GPa&附着力81.85 N

采用HiPIMS在WC-Co上沉积具有界面嵌套结构的分级TiAlN/CrN涂层：亚微米TiAlN/CrN交替层作为宏观骨架，约0.3 μm，界面处嵌套约5 nmTiAlN/CrN超晶格过渡层。涂层硬度达37.71 GPa，附着力81.85 N（比TiAlN单层提高56.3%），磨损率低

反应性HiPIMS沉积CrNx涂层——氮含量饱和于52at.%&高能金属离子促化学计量比CrN

随着N2流量从0增至75sccm，CrNx涂层中N含量快速增加并在约52at.%饱和，与Cr-N相图化学计量比一致。放电从金属模式向化合物模式转变，Cr⁺/Cr*发射强度比升高，电子温度上升，高能Cr⁺通量增强Cr-N键

混合HiPIMS与MFMS制备多层TiCN/TiN/Ti薄膜——硬度33.36 GPa&磨损率0.46 µm³&腐蚀电位+1.452 V

采用混合MFMS+HiPIMS2模式（TiCN层仅HiPIMS沉积），多层膜硬度达33.36 GPa，H3/E2=0.42，摩擦系数0.39，磨损体积仅0.46 µm³；腐蚀电位+1.452 V，腐蚀电流1.03 µA/cm²。相比纯MFMS模式，HiPIMS引入使晶粒细化、结构致密，耐磨耐蚀性显著提升