新铂科技-生态分享（1）hipims-SiO2

用Hipims制备Cr保护膜 Hipims-Cr

用Hipims正脉冲 低温获得立方Y2O3高温相 文献中实验室小靶Hipims的案例分享（3）Hipims-Y2O3

HIPiMS技术对材料性能有哪些具体影响

HIPiMS技术（高功率脉冲磁控溅射技术）对材料性能的影响主要体现在薄膜的微观结构、致密度、机械性能以及功能特性等方面。

高功率脉冲是多少赫兹

在工业领域，像高功率脉冲激光加工设备，为实现材料切割、焊接或表面处理，其脉冲频率一般在几十赫兹到几千赫兹。例如切割薄金属板材时，几十赫兹的脉冲频率能在保证切割质量的同时，有效控制热影响区域，防止板材因过热变形。

反应气体的选择和配比如何影响真空镀膜的成分和性能？

　　在化学气相沉积（CVD）真空镀膜中，反应气体的选择与配比宛如一双无形却有力的大手，对镀膜的成分和性能起着决定性作用。

在光学镀膜应用中，如何通过控制膜层厚度和折射率来实现特定的光学性能

设备精度保障：使用高精度的镀膜设备，如采用电子束蒸发或磁控溅射设备，其厚度控制精度可达纳米级。这些设备配备膜厚监测仪，实时反馈膜层生长情况，控制提供硬件基础。

如何选择适合的真空镀膜材料？

光学性能需求：若要提高镜片的透光率，可选择二氧化硅（SiO₂）、二氧化钛（TiO₂）等具有特定折射率和低吸收特性的材料来制作增透膜。若是制备光学反射镜，则可选用铝（Al）、银（Ag）等具有高反射率的金属材料。