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磁控溅射有哪些种类?不同种类的工作原理是什么?
磁控溅射作为一种物理 气相沉积（PVD）技术，在材料科学与工程领域有着广泛的应用。它通过结合电场和磁场的作用，提高了溅射过程中的粒子利用率和沉积效率。磁控溅射可以根据不同的分类标准分为多种类型，每种类型都有其独特的工作原理和适用范围。以下是一些常见的磁控溅射种类及其工作原理概述：
HIPIMS技术沉积TiSiN纳米复合涂层探究
HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脉冲磁控溅射）薄膜沉积方法，它在沉积TiSiN纳米复合涂层方面展现出显著的优势。与传统的直流磁控溅射（DCMS）技术相比，
hipims脉冲电源与DC优势
HiPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）脉冲电源与DC（Direct Current）电源相比，在多个方面展现出显著的优势。以下是对这些优势的详细分析：
HIPIMS技术在金属双极板涂层中的应用
HIPIMS技术，即高功率脉冲磁控溅射技术（High Power Impulse Magnetron Sputtering），在金属双极板涂层中的应用具有显著的优势
利用HiPIMS制备出的Ti-Si-N薄膜硬度可以达到66GPa！
Ti-Si-N是被认为是一种高硬度的膜层，Veprek（1999）提出了一种结构模型，认为是非晶包含纳米晶结构。这有点类似于我们见到的沥青和石头混合路面结构。这里的纳米晶尺寸和非晶含量的多少是很讲究的。