新铂科技:什么是辉光?
视频带您了解什么是辉光?...
磁控溅射可分为直流(DC)磁控溅射、中频(MF)磁控溅射、射频(RF)磁控溅射。直流(DC)磁控溅射与气压在一定范围内的溅射提高了电离率(尽可能小保持较高的电离率),提高了均匀度增加了压力又保证了薄膜的纯度,...
(1)真空蒸发:将需要涂膜的基材清洗干净,放入涂膜室。膜材料抽真空后加热至高温,使水蒸气达到13.3Pa左右,水蒸气分子飞到基板表面凝结成膜。...
因磁场约束,以及超高功率放电,高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)在放电过程中会存在局部放电增强而导致辉光闪烁的不稳定现象。当不稳定辉光存在时,其放电状态也有很大差异,辉光会形成不同的放电组织和斑图形式。伴随着这些增强型斑图辉光放电,其内部粒子成分放电状态如激发与电离存在差异,如何直观研究这些变化,高分辨光谱影像学是一种有效的手段,可直观观察不稳定区域的放电形式与变化。...
HiPIMS电源在高致密性硬质涂层中有很好工业化利用,但是光学应用中的案例还不多,本文将介绍HiPIMS反应溅射模式下的特性。...
HMDSO制备C:SiOX膜层具有优异的耐腐蚀性能,上篇讲到HMDSO/O2比例对膜层成分,耐腐蚀性能与硬度影响。在整个镀膜过程中,偏压也是影响HMDSO制备的C:SiOX膜层性能的因素之一。...
在Si靶和Ta靶氧反应溅射时,用合适的HiPIMS脉冲参数可以抑制进气迟滞回线,在没有气体控制器下也能保证工艺稳定性。...
高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)因磁场约束放电,其靶材附近的放电形式变化多样。放电的不稳定性,等离子体均匀性,等离子体的磁约束情况都是非常值得研究的内容,如等离子体局部离化,电子逃逸等导致的等离子体形状变化如条形斑图,环状斑图等。...
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