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新铂科技：什么是辉光?
视频带您了解什么是辉光?...
新铂科技专注于高功率脉冲等离子体真空镀膜技术
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电源
HiPIMS电源，P3E电源， 100KHz偏压电源
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设备
高功率磁控PVD设备
高能脉冲弧PVD设备、管道PECVD镀膜设备 -
工艺
DLC、CrN、CrTiN、TiSiCN、CrAlSiCN
产品及解决方案
应用案例
about us
关于新铂
新铂科技（东莞）有限公司成立于2020 年底，是新铂科技的主要生产基地，具有4条组装生产线和5条检测调试线，厂房面积2000+，现有员工20+。是国内专业从事真空镀膜系统的研发、制造、销售为一体的国家级高新技术企业。其研发中心位于东莞市松山湖大学创新城，其研发人员均为硕士以上学历（其中博士6人），在相关领域发表学术论文300余篇。
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60%
研发人员占比
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300+
发布学术论文
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4.5星级
客户好评
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50+个
课题合作研发
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20+个
定制开发项目
企业荣誉
新闻中心
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磁控溅射技术分为直流(DC)磁控溅射、中频(MF)磁控溅射、射频(RF)磁控溅射，分别有何作用？
磁控溅射可分为直流(DC)磁控溅射、中频(MF)磁控溅射、射频(RF)磁控溅射。直流(DC)磁控溅射与气压在一定范围内的溅射提高了电离率(尽可能小保持较高的电离率)，提高了均匀度增加了压力又保证了薄膜的纯度，...
- 2022-06-08 13:43:18 | →
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真空镀膜的方法有什么？
(1)真空蒸发:将需要涂膜的基材清洗干净，放入涂膜室。膜材料抽真空后加热至高温，使水蒸气达到13.3Pa左右，水蒸气分子飞到基板表面凝结成膜。...
- 2022-06-08 10:05:25 | →
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HiPIMS自组织放电高分辨光谱影像学
因磁场约束，以及超高功率放电，高功率脉冲磁控溅射技术（HiPIMS）在放电过程中会存在局部放电增强而导致辉光闪烁的不稳定现象。当不稳定辉光存在时，其放电状态也有很大差异，辉光会形成不同的放电组织和斑图形式。伴随着这些增强型斑图辉光放电，其内部粒子成分放电状态如激发与电离存在差异，如何直观研究这些变化，高分辨光谱影像学是一种有效的手段，可直观观察不稳定区域的放电形式与变化。...
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HiPIMS反应溅射特性
HiPIMS电源在高致密性硬质涂层中有很好工业化利用，但是光学应用中的案例还不多，本文将介绍HiPIMS反应溅射模式下的特性。...
- 2022-07-16 11:54:37 | →
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直流偏压对HMDSO制备C：SiOX膜层性能的影响
HMDSO制备C：SiOX膜层具有优异的耐腐蚀性能，上篇讲到HMDSO/O2比例对膜层成分，耐腐蚀性能与硬度影响。在整个镀膜过程中，偏压也是影响HMDSO制备的C：SiOX膜层性能的因素之一。...
- 2022-07-16 11:47:46 | →
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HiPIMS反应溅射制备SiO2-Ta2O5光学干涉膜
在Si靶和Ta靶氧反应溅射时，用合适的HiPIMS脉冲参数可以抑制进气迟滞回线，在没有气体控制器下也能保证工艺稳定性。...
- 2022-07-16 11:39:34 | →
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HiPIMS有无局部离化区的放电对比研究
高功率脉冲磁控溅射技术（HiPIMS）因磁场约束放电，其靶材附近的放电形式变化多样。放电的不稳定性，等离子体均匀性，等离子体的磁约束情况都是非常值得研究的内容，如等离子体局部离化，电子逃逸等导致的等离子体形状变化如条形斑图，环状斑图等。...
- 2022-07-16 11:29:05 | →
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