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新铂科技：什么是辉光?
视频带您了解什么是辉光?...
新铂科技专注于高功率脉冲等离子体真空镀膜技术
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电源
HiPIMS电源，P3E电源， 100KHz偏压电源
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设备
高功率磁控PVD设备
高能脉冲弧PVD设备、管道PECVD镀膜设备 -
工艺
DLC、CrN、CrTiN、TiSiCN、CrAlSiCN
产品及解决方案
应用案例
about us
关于新铂
新铂科技（东莞）有限公司成立于2020 年底，是新铂科技的主要生产基地，具有4条组装生产线和5条检测调试线，厂房面积2000+，现有员工20+。是国内专业从事真空镀膜系统的研发、制造、销售为一体的国家级高新技术企业。其研发中心位于东莞市松山湖大学创新城，其研发人员均为硕士以上学历（其中博士6人），在相关领域发表学术论文300余篇。
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60%
研发人员占比
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300+
发布学术论文
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4.5星级
客户好评
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50+个
课题合作研发
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20+个
定制开发项目
企业荣誉
新闻中心
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对比阴极弧与HiPIMS对AlTiN沉积膜层的研究
目前制备硬质合金涂层主要可采用PVD方式，而PVD沉积除磁控放电外，还有阴极弧放电进行涂层PVD沉积，相比磁控，阴极弧放电结构简单，已广泛应用于各种涂层技术的制备，如装饰镀层，其工艺沉积速率快。随着工艺的要求逐渐提高，硬质合金涂层在硬度等方面提出了更高的要求，...
- 2022-10-26 00:00:00 | →
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DLC涂层 - 汽车雨刮器的“便衣”
雨刮器是汽车的重要装置，对于安全行车具有至关重要的作用。 好的雨刮器必须具备耐热、耐寒、耐酸碱、抗腐蚀、能贴合挡风玻璃、减轻马达负担、低噪音、拨水性强、质软不刮伤挡风玻璃等特点，能使你视野清晰。...
- 2023-02-01 11:18:54 | →
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多孔陶瓷材料的等离子体渗透性研究
氧化锌（ZnO）作为一种高带隙半导体，以其出色的化学稳定性和生物相容性广泛应用于气体传感和催化等领域，尤其是具有三维多孔骨架结构的t-ZnO。通过控制t‐ZnO的晶体形态和缺陷结构，可以适应不同的应用，其中就包括对氧化锌进行等离子体表面改性处理来改善其电导率等性能。为了将三维多孔t‐ZnO的优点与等离子体表面改性相结合，必须让等离子体穿透到多孔骨架结构中。由于高能等离子体会导致聚合物表面C-C和C-H键的解离并使C自由基位点上附着新的原子或基团，...
- 2022-12-09 11:49:18 | →
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HiPIMS技术和dcMS技术在微孔内表面制备TiAlN薄膜的对比
新铂科技，聚焦高能等离子体表面工程硬件和工艺。 润滑油常用来提高微成形（金属冲压工艺尺寸的小型化）模具的使用寿命与加工精度，但是从污垢处理、产品污染和不稳定成型性的角度来看，无润滑油微成型工艺是行业的一个强烈需求。这就要求在模具的微孔内表面均匀制备具有抗黏着、高韧性和耐磨损的润滑防护薄膜。虽然在非平面的均匀性上 CVD技术比PVD技术具有更大的优势，但薄膜性能和基底温度并不适用于微模具制造。高能脉冲磁控溅射（HIPIMS）技术是一种能够获得高电离度的新型PVD工艺，利用这一技术在微孔内壁制备硬质耐磨涂层可以解决润滑剂在微尺度成形中的低效（尺度效应）。相比于传统的dcMC（直流磁控溅射）技术，HIPIMS沉积的TiAlN薄膜微观结构致密，表面光滑，即使在微孔内壁也具有更高的硬度。...
- 2022-11-11 16:06:20 | →
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阴极弧放电不同反应气体等离子体对阴极的腐蚀研究
阴极弧放电已被经常用于沉积不同的金属膜，除常用的Ar用于直接溅射靶材沉积相应的金属薄膜外，含氮、含氧的薄膜也经常在沉积过程中通过掺入O2和N2进行放电来获得。不同于单质Ar等离子体放电，N2与O2属于反应性气体，等离子体过程更加复杂，因此在阴极弧表面形成不同的放电形式。...
- 2022-10-10 00:00:00 | →
HiPIMS自组织放电高分辨光谱影像学
因磁场约束，以及超高功率放电，高功率脉冲磁控溅射技术（HiPIMS）在放电过程中会存在局部放电增强而导致辉光闪烁的不稳定现象。当不稳定辉光存在时，其放电状态也有很大差异，辉光会形成不同的放电组织和斑图形式。伴随着这些增强型斑图辉光放电，其内部粒子成分放电状态如激发与电离存在差异，如何直观研究这些变化，高分辨光谱影像学是一种有效的手段，可直观观察不稳定区域的放电形式与变化。...
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镀膜工艺中的镀膜界表面预处理是为了什么？
我们都知道纳米颗粒由于具有大的表面能，拥有自聚集效应。在一个平坦的表面，表面堆积一层纳米颗粒，随着温度的上升，一般可能会出现纳米颗粒之间的聚集和相互作用。而后才与平坦表面发生作用。经典测试表明，金属之间的互扩散需要达到材料熔点的80%。 ...
- 2022-11-23 10:53:31 | →
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利用阳极层离子源在管道内壁制备类金刚石涂层
阳极层离子源由于其简单性和将气体转变为离子束的能力而被广泛研究，其主要功能是在使用期间360°范围内连续产生离子束。通过简单地沿着直管或弯管牵引离子源就可以实现管道内壁涂层的制备。利用传统的物理气相沉积如直流/射频磁控溅射和PLD方法制备的类金刚石（DLC）涂层通常包含结构缺陷，如针孔、孔洞和裂纹。...
- 2022-10-26 10:13:03 | →
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直流偏压对HMDSO制备C：SiOX膜层性能的影响
HMDSO制备C：SiOX膜层具有优异的耐腐蚀性能，上篇讲到HMDSO/O2比例对膜层成分，耐腐蚀性能与硬度影响。在整个镀膜过程中，偏压也是影响HMDSO制备的C：SiOX膜层性能的因素之一。...
- 2022-07-16 11:47:46 | →
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HiPIMS反应溅射制备SiO2-Ta2O5光学干涉膜
在Si靶和Ta靶氧反应溅射时，用合适的HiPIMS脉冲参数可以抑制进气迟滞回线，在没有气体控制器下也能保证工艺稳定性。...
- 2022-07-16 11:39:34 | →