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HiPIMS，低温ITO沉积的机会！
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新铂科技专注于高功率脉冲等离子体真空镀膜技术
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电源
HiPIMS电源，P3E电源， 100KHz偏压电源
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设备
高功率磁控PVD设备
高能脉冲弧PVD设备、管道PECVD镀膜设备 -
工艺
DLC、CrN、CrTiN、TiSiCN、CrAlSiCN
产品及解决方案
应用案例
about us
关于新铂
新铂科技（东莞）有限公司成立于2020 年底，是新铂科技的主要生产基地，具有4条组装生产线和5条检测调试线，厂房面积2000+，现有员工20+。是国内专业从事真空镀膜系统的研发、制造、销售为一体的国家级高新技术企业。其研发中心位于东莞市松山湖大学创新城，其研发人员均为硕士以上学历（其中博士6人），在相关领域发表学术论文300余篇。
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60%
研发人员占比
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300+
发布学术论文
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4.5星级
客户好评
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50+个
课题合作研发
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20+个
定制开发项目
企业荣誉
新闻中心
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2024大湾区高能脉冲PVD高峰论坛在松山湖材料实验室成功举办
12月14日，由松山湖材料实验室、哈尔滨工业大学材料结构精密焊接与连接全国重点实验室以及等离子体放电团队孵化的高能脉冲PVD电源企业新铂科技(东莞)有限公司联合主办的“2024大湾区高能脉冲PVD高峰论坛”在松山湖材料实验室会议中心成功举行。...
- 2024-12-18 11:47:48 | →
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2024大湾区高能脉冲PVD论坛在莞举行
12月14日，“2024大湾区高能脉冲PVD论坛”在松山湖材料实验室举办。此次论坛由松山湖材料实验室、材料结构精密焊接与连接全国重点实验室联合举办，由高能脉冲PVD电源的领军企业新铂科技东莞有限公司提供支持。...
- 2024-12-18 10:37:22 | →
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250多名高能脉冲PVD专家齐聚东莞，共探技术产业融合路径
12月14日，来自高校、中国科学院、企业的250多名代表齐聚东莞“2024大湾区高能脉冲PVD高峰论坛”，共同研讨高能脉冲PVD（真空镀膜）领域的研究成果和未来发展趋势。论坛由松山湖材料实验室、材料结构精密焊接与连接全国重点实验室、新铂科技（东莞）有限公司联合举办。...
- 2024-12-18 10:34:05 | →
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2024大湾区高能脉冲 PVD 高峰论坛成功举办，引领行业前沿发展
2024年12月14日，备受瞩目的高能脉冲PVD高峰论坛在东莞松山湖材料实验室盛大召开。 本次论坛汇聚了北京大学、清华大学、浙江大学、中科院固体所、华南理工大学、哈尔滨工业大学、澳门大学、香港城市大学、季华实验室以及华为、华星光电等250多位国内该领域的专家、学者以及企业代表，共同探讨高能脉冲PVD技术的进展与未来趋势，为行业的发展注入了新的活力与智慧。...
- 2024-12-18 10:28:35 | →
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HIPiMS技术对材料性能有哪些具体影响
HIPiMS技术（高功率脉冲磁控溅射技术）对材料性能的影响主要体现在薄膜的微观结构、致密度、机械性能以及功能特性等方面。...
- 2025-05-15 14:36:02 | →
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高功率脉冲是多少赫兹
在工业领域，像高功率脉冲激光加工设备，为实现材料切割、焊接或表面处理，其脉冲频率一般在几十赫兹到几千赫兹。例如切割薄金属板材时，几十赫兹的脉冲频率能在保证切割质量的同时，有效控制热影响区域，防止板材因过热变形。...
- 2025-03-15 10:57:21 | →
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反应气体的选择和配比如何影响真空镀膜的成分和性能？
在化学气相沉积（CVD）真空镀膜中，反应气体的选择与配比宛如一双无形却有力的大手，对镀膜的成分和性能起着决定性作用。...
- 2025-03-13 16:58:09 | →
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在光学镀膜应用中，如何通过控制膜层厚度和折射率来实现特定的光学性能
设备精度保障：使用高精度的镀膜设备，如采用电子束蒸发或磁控溅射设备，其厚度控制精度可达纳米级。这些设备配备膜厚监测仪，实时反馈膜层生长情况，控制提供硬件基础。...
- 2025-03-07 10:24:23 | →
管道结垢难题有解了！DLC薄膜助力石油行业发展！
在石油行业，人们正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以将原油的生产效率提高10%~15%。然而，随着石油产量的增加，也面临着更多的挑战，管道腐蚀是其中之一。对于二氧化碳增强采收率（EOR）技术，生产油水混合物因高压与二氧化碳过饱和而酸化，...
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真空镀膜的附着力探讨
一般来说，真空镀膜可以具有较好的附着力。这主要是因为在真空环境下，镀膜材料的原子或分子能够以较高的能量和纯净度沉积在基材表面。与传统的镀膜方法相比，真空镀膜减少了杂质和氧化的影响，从而有利于提高镀膜与基材之间的结合力。...
- 2024-10-19 15:32:17 | →
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HiPIMS电源可以沉积氧化物吗
HiPIMS（高功率脉冲磁控溅射，High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一种薄膜沉积技术，它利用高频脉冲电源产生的高密度等离子体来进行材料的溅射沉积。相较于传统的直流磁控溅射（DCMS），HiPIMS技术具有更高的离子化率、更好的薄膜质量以及更均匀的薄膜厚度等优点。因此，HiPIMS技术在薄膜沉积领域得到了广泛的应用，尤其是在制备高质量、高性能薄膜材料方面表现突出。...
- 2024-09-29 10:22:14 | →