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MIS-HiPIMS低温沉积CrSiN涂层——-150V偏压下硬度22.4GPa&96h盐雾测试通过
采用MIS-HiPIMS技术，在180°C低温下通过调控同步脉冲偏压（-50至-250V）沉积CrSiN涂层。-150V时形成nc-CrN/a-Si3N4纳米复合结构，硬度达22.4±0.8GPa，接触角约100°（疏水），96h中性盐雾测试后表面无点蚀，展现出优异的防腐蚀性能
斩波双极HiPIMS增强绝缘表面能量通量——中电容下能量通量提升20%
斩波双极HiPIMS（5[N+6P]）通过多个短正脉冲替代单个长正脉冲，在中等表面电容（10nF）下使能量通量比5[N]配置提升20%。斩波单极HiPIMS（5[N]）相比标准HiPIMS（[N]）能量通量提升50%，沉积速率提升20%