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真空镀膜工艺流程，清洗、抽真空、离子刻蚀、沉积规范
真空镀膜成品品质，很大程度取决于前处理与炉内工艺管控，整套流程分为来料预处理，炉前清洗，装夹，抽真空除气，离子刻蚀，膜层沉积，冷却破真空，后检验，每一步工艺参数都有对应的操作规范，以PVD电弧离子镀、磁控溅射通用流程为准。
MIS-HiPIMS低温沉积CrSiN涂层——-150V偏压下硬度22.4GPa&96h盐雾测试通过
采用MIS-HiPIMS技术，在180°C低温下通过调控同步脉冲偏压（-50至-250V）沉积CrSiN涂层。-150V时形成nc-CrN/a-Si3N4纳米复合结构，硬度达22.4±0.8GPa，接触角约100°（疏水），96h中性盐雾测试后表面无点蚀，展现出优异的防腐蚀性能