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北京HiPIMS，低温ITO沉积的机会！
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关于新铂
新铂科技（东莞）有限公司成立于2020 年底，是新铂科技的主要生产基地，具有4条组装生产线和5条检测调试线，厂房面积2000+，现有员工20+。是国内专业从事真空镀膜系统的研发、制造、销售为一体的国家级高新技术企业。其研发中心位于东莞市松山湖大学创新城，其研发人员均为硕士以上学历（其中博士6人），在相关领域发表学术论文300余篇。
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60%
研发人员占比
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300+
发布学术论文
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4.5星级
客户好评
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50+个
课题合作研发
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20+个
定制开发项目
企业荣誉
新闻中心
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北京磁控溅射有哪些种类?不同种类的工作原理是什么?
磁控溅射作为一种物理 气相沉积（PVD）技术，在材料科学与工程领域有着广泛的应用。它通过结合电场和磁场的作用，提高了溅射过程中的粒子利用率和沉积效率。磁控溅射可以根据不同的分类标准分为多种类型，每种类型都有其独特的工作原理和适用范围。以下是一些常见的磁控溅射种类及其工作原理概述：...
- 2024-07-26 10:21:43 | →
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北京点击关注，了解最前沿的真空应用技术，跟随新铂科技走向未来！
在展示区展出了新铂等离子体镀膜工艺成品与电源设备，让参展的嘉宾与展商皆感叹新铂科技在真空应用领域技术实力！...
- 2023-08-19 09:21:58 | →
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北京新铂科技参加2023国际新材料展
2023年6月27-29日，在深圳国际会展中心20号馆举办了2023国际新材料展(MATERIALS.CN)...
- 2023-06-30 13:45:56 | →
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北京HIPIMS放电等离子体特性
通过脉冲电源产生高密度等离子体来溅射靶材，从而在基材上沉积高质量的薄膜。HIPIMS技术相比于传统的直流磁控溅射技术，能够提供更高的离子化率、更好的薄膜质量和更强的薄膜与基底间的附着力。下面我们来探讨HIPIMS放电等离子体的主要特性。...
- 2024-08-05 11:11:47 | →
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北京HIPIMS技术沉积TiSiN纳米复合涂层探究
HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脉冲磁控溅射）薄膜沉积方法，它在沉积TiSiN纳米复合涂层方面展现出显著的优势。与传统的直流磁控溅射（DCMS）技术相比，...
- 2024-07-08 11:21:36 | →
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北京hipims脉冲电源与DC优势
HiPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）脉冲电源与DC（Direct Current）电源相比，在多个方面展现出显著的优势。以下是对这些优势的详细分析：...
- 2024-06-21 17:37:53 | →
北京管道结垢难题有解了！DLC薄膜助力石油行业发展！
在石油行业，人们正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以将原油的生产效率提高10%~15%。然而，随着石油产量的增加，也面临着更多的挑战，管道腐蚀是其中之一。对于二氧化碳增强采收率（EOR）技术，生产油水混合物因高压与二氧化碳过饱和而酸化，...
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北京HiPIMS电源可以沉积氧化物吗
高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS, High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一种薄膜沉积技术，其特点是使用高功率脉冲对靶材进行激发，以提高溅射过程的离子化程度和沉积速率。...
- 2024-08-29 11:44:18 | →
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北京HIPIMS技术在金属双极板涂层中的应用
HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脉冲磁控溅射）物理 气相沉积（PVD）技术，它通过使用高峰值功率和低占空比的脉冲电源来实现材料的溅射。...
- 2024-08-19 11:28:21 | →
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北京hipims脉冲电源控制模式
HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）脉冲电源控制模式是一种在薄膜沉积技术中广泛应用电源控制方式。...
- 2024-06-13 10:35:19 | →
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