浙江HiPIMS,低温ITO沉积的机会!
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在工业级HiPIMS系统中,通过交替溅射Ti和Cr靶制备TiN/CrN多层涂层。双层周期Λ=15 nm时形成清晰超晶格结构,硬度达31.9 GPa(比单层CrN提高98%),弹性模量394 GPa;Λ=7 nm时获得高H/E和H³/E²比值,抗裂耐磨性更优...

采用MIS-HiPIMS技术,同步脉冲偏压宽度从100 μs增至500 μs,离子轰击时间延长,薄膜由疏松柱状演变为致密纳米柱状结构。硬度从15.6 GPa升至20.2 GPa,磨损率低至9.1×10⁻¹⁶ m³/N·m。...






在石油行业,人们正在努力提高原油回收效率。例如,注入二氧化碳可以将原油的生产效率提高10%~15%。然而,随着石油产量的增加,也面临着更多的挑战,管道腐蚀是其中之一。对于二氧化碳增强采收率(EOR)技术,生产油水混合物因高压与二氧化碳过饱和而酸化,...



一般来说,真空镀膜可以具有较好的附着力。这主要是因为在真空环境下,镀膜材料的原子或分子能够以较高的能量和纯净度沉积在基材表面。与传统的镀膜方法相比,真空镀膜减少了杂质和氧化的影响,从而有利于提高镀膜与基材之间的结合力。...

HiPIMS(高功率脉冲磁控溅射,High Power Impulse Magnetron Sputtering)是一种薄膜沉积技术,它利用高频脉冲电源产生的高密度等离子体来进行材料的溅射沉积。相较于传统的直流磁控溅射(DCMS),HiPIMS技术具有更高的离子化率、更好的薄膜质量以及更均匀的薄膜厚度等优点。因此,HiPIMS技术在薄膜沉积领域得到了广泛的应用,尤其是在制备高质量、高性能薄膜材料方面表现突出。...