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浙江HiPIMS，低温ITO沉积的机会！
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关于新铂
新铂科技（东莞）有限公司成立于2020 年底，是新铂科技的主要生产基地，具有4条组装生产线和5条检测调试线，厂房面积2000+，现有员工20+。是国内专业从事真空镀膜系统的研发、制造、销售为一体的国家级高新技术企业。其研发中心位于东莞市松山湖大学创新城，其研发人员均为硕士以上学历（其中博士6人），在相关领域发表学术论文300余篇。
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60%
研发人员占比
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300+
发布学术论文
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4.5星级
客户好评
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50+个
课题合作研发
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20+个
定制开发项目
企业荣誉
新闻中心
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浙江斩波双极HiPIMS增强绝缘表面能量通量——中电容下能量通量提升20%
斩波双极HiPIMS（5[N+6P]）通过多个短正脉冲替代单个长正脉冲，在中等表面电容（10nF）下使能量通量比5[N]配置提升20%。斩波单极HiPIMS（5[N]）相比标准HiPIMS（[N]）能量通量提升50%，沉积速率提升20%...
- 2026-07-11 09:06:11 | →
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浙江HiPIMS沉积Nb₃Sn薄膜——750°C下Tc达17.43K，无需后退火
采用HiPIMS技术，通过高能离子增强表面扩散，在750°C、-50V偏压下直接沉积A15相Nb3Sn薄膜，Tc高达17.43K（体材理论值18.3K的95%），ΔTc仅0.23K，RRR为2.15，无需任何后退火处理。与传统锡蒸气扩散法...
- 2026-07-09 17:08:27 | →
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浙江HiPIMS沉积Nb薄膜——mK温区微波损耗与体铌相当，光子寿命达秒级
HiPIMS沉积Nb薄膜（RRR约20，晶粒400–600 nm）在mK温区微波损耗与体铌（RRR约300，晶粒50μm）相当，Q₀达2×10¹⁰，光子寿命>1 s；340°C真空退火使TLS损耗降低10倍。小晶粒、低RRR对超导量子器件所需低场...
- 2026-07-02 13:50:45 | →
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浙江单磁控管上HiPIMS与射频叠加：高离子能量的产生
HiPIMS技术因高离化率而能制备致密、高结合力的薄膜，但HiPIMS中等离子体电位通常较低，仅数eV，限制了离子到达基底时的能量。传统上通过施加负基底偏压来加速离子，但对于介电薄膜或绝缘基底...
- 2026-06-30 13:45:42 | →
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浙江分级TiAlN/CrN涂层——硬度37.71 GPa&附着力81.85 N
采用HiPIMS在WC-Co上沉积具有界面嵌套结构的分级TiAlN/CrN涂层：亚微米TiAlN/CrN交替层作为宏观骨架，约0.3 μm，界面处嵌套约5 nmTiAlN/CrN超晶格过渡层。涂层硬度达37.71 GPa，附着力81.85 N（比TiAlN单层提高56.3%），磨损率低...
- 2026-06-11 10:27:59 | →
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浙江反应性HiPIMS沉积CrNx涂层——氮含量饱和于52at.%&高能金属离子促化学计量比CrN
随着N2流量从0增至75sccm，CrNx涂层中N含量快速增加并在约52at.%饱和，与Cr-N相图化学计量比一致。放电从金属模式向化合物模式转变，Cr⁺/Cr*发射强度比升高，电子温度上升，高能Cr⁺通量增强Cr-N键...
- 2026-06-09 10:12:49 | →
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浙江混合HiPIMS与MFMS制备多层TiCN/TiN/Ti薄膜——硬度33.36 GPa&磨损率0.46 µm³&腐蚀电位+1.452 V
采用混合MFMS+HiPIMS2模式（TiCN层仅HiPIMS沉积），多层膜硬度达33.36 GPa，H3/E2=0.42，摩擦系数0.39，磨损体积仅0.46 µm³；腐蚀电位+1.452 V，腐蚀电流1.03 µA/cm²。相比纯MFMS模式，HiPIMS引入使晶粒细化、结构致密，耐磨耐蚀性显著提升...
- 2026-06-04 13:50:53 | →
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浙江同步偏压滞后时间调控TiN/CrN涂层——残余应力-1.5 GPa&H³/E²=0.213
HiPIMS沉积TiN时，通过调节同步基底偏压滞后时间（0-150 μs），残余应力从DC偏压的-9.4 GPa降至-1.5 GPa（滞后50 μs），硬度保持25 GPa左右；滞后100 μs时H³/E²达0.213，腐蚀电流仅5.87 nA。CrN因电离度低...
- 2026-06-04 13:46:00 | →
浙江管道结垢难题有解了！DLC薄膜助力石油行业发展！
在石油行业，人们正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以将原油的生产效率提高10%~15%。然而，随着石油产量的增加，也面临着更多的挑战，管道腐蚀是其中之一。对于二氧化碳增强采收率（EOR）技术，生产油水混合物因高压与二氧化碳过饱和而酸化，...
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浙江真空镀膜的附着力探讨
一般来说，真空镀膜可以具有较好的附着力。这主要是因为在真空环境下，镀膜材料的原子或分子能够以较高的能量和纯净度沉积在基材表面。与传统的镀膜方法相比，真空镀膜减少了杂质和氧化的影响，从而有利于提高镀膜与基材之间的结合力。...
- 2024-10-19 15:32:17 | →
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浙江HiPIMS电源可以沉积氧化物吗
HiPIMS（高功率脉冲磁控溅射，High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一种薄膜沉积技术，它利用高频脉冲电源产生的高密度等离子体来进行材料的溅射沉积。相较于传统的直流磁控溅射（DCMS），HiPIMS技术具有更高的离子化率、更好的薄膜质量以及更均匀的薄膜厚度等优点。因此，HiPIMS技术在薄膜沉积领域得到了广泛的应用，尤其是在制备高质量、高性能薄膜材料方面表现突出。...
- 2024-09-29 10:22:14 | →