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浙江HiPIMS，低温ITO沉积的机会！
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关于新铂
新铂科技（东莞）有限公司成立于2020 年底，是新铂科技的主要生产基地，具有4条组装生产线和5条检测调试线，厂房面积2000+，现有员工20+。是国内专业从事真空镀膜系统的研发、制造、销售为一体的国家级高新技术企业。其研发中心位于东莞市松山湖大学创新城，其研发人员均为硕士以上学历（其中博士6人），在相关领域发表学术论文300余篇。
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60%
研发人员占比
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300+
发布学术论文
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4.5星级
客户好评
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50+个
课题合作研发
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20+个
定制开发项目
企业荣誉
新闻中心
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浙江磁控溅射有哪些种类?不同种类的工作原理是什么?
磁控溅射作为一种物理 气相沉积（PVD）技术，在材料科学与工程领域有着广泛的应用。它通过结合电场和磁场的作用，提高了溅射过程中的粒子利用率和沉积效率。磁控溅射可以根据不同的分类标准分为多种类型，每种类型都有其独特的工作原理和适用范围。以下是一些常见的磁控溅射种类及其工作原理概述：...
- 2024-07-26 10:21:43 | →
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浙江点击关注，了解最前沿的真空应用技术，跟随新铂科技走向未来！
在展示区展出了新铂等离子体镀膜工艺成品与电源设备，让参展的嘉宾与展商皆感叹新铂科技在真空应用领域技术实力！...
- 2023-08-19 09:21:58 | →
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浙江新铂科技参加2023国际新材料展
2023年6月27-29日，在深圳国际会展中心20号馆举办了2023国际新材料展(MATERIALS.CN)...
- 2023-06-30 13:45:56 | →
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浙江真空镀膜技术中，薄膜厚度的测量和控制是如何实现的？
这是一种常用的测量方法。其原理是基于光的干涉现象。当一束光照射到薄膜表面时，部分光被反射，部分光透过薄膜在基底和薄膜的界面再次反射，这两束反射光会发生干涉。通过检测干涉条纹的变化来确定薄膜的厚度。...
- 2024-12-04 15:33:37 | →
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浙江如何控制和优化真空镀膜参数以获得较佳的效果
蒸发源温度是关键参数。对于不同的镀膜材料，有其特定的蒸发温度范围。如蒸发金属铝，温度一般在1200-1400℃。通过温度传感器和反馈控制系统，如热电偶结合PID控制器，能控制温度。温度过高可能导致材料过度蒸发，...
- 2024-11-28 11:28:09 | →
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浙江真空镀膜过程中，材料是如何从源转移到基底上的
在蒸发镀膜技术中，首先将镀膜材料加热到足够高的温度，使其原子或分子获得足够的能量克服表面能，从固态或液态转变为气态。这个过程通常在真空环境下的蒸发源中进行。例如，对于金属材料如铝，通过电阻加热、电子束加热等方式使铝原子从蒸发源的固体表面逸出。...
- 2024-11-28 10:14:36 | →
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浙江管道结垢难题有解了！DLC薄膜助力石油行业发展！
在石油行业，人们正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以将原油的生产效率提高10%~15%。然而，随着石油产量的增加，也面临着更多的挑战，管道腐蚀是其中之一。对于二氧化碳增强采收率（EOR）技术，生产油水混合物因高压与二氧化碳过饱和而酸化，...
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浙江真空镀膜的附着力探讨
一般来说，真空镀膜可以具有较好的附着力。这主要是因为在真空环境下，镀膜材料的原子或分子能够以较高的能量和纯净度沉积在基材表面。与传统的镀膜方法相比，真空镀膜减少了杂质和氧化的影响，从而有利于提高镀膜与基材之间的结合力。...
- 2024-10-19 15:32:17 | →
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浙江HiPIMS电源可以沉积氧化物吗
HiPIMS（高功率脉冲磁控溅射，High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一种薄膜沉积技术，它利用高频脉冲电源产生的高密度等离子体来进行材料的溅射沉积。相较于传统的直流磁控溅射（DCMS），HiPIMS技术具有更高的离子化率、更好的薄膜质量以及更均匀的薄膜厚度等优点。因此，HiPIMS技术在薄膜沉积领域得到了广泛的应用，尤其是在制备高质量、高性能薄膜材料方面表现突出。...
- 2024-09-29 10:22:14 | →
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浙江HIPiMS技术在沉积过程中如何控制薄膜的微观结构
HIPiMS技术的核心是使用高功率脉冲放电，这导致了等离子体密度和离子化率的显著提高。通过调整脉冲峰值功率，可以改变溅射粒子的能量分布。较高的功率通常会导致更高的离子化率，从而影响薄膜的致密度和附着力。...
- 2024-09-25 15:29:36 | →