表面处理技术专家

全球领先,12m超长管道镀膜技术

新铂科技专注于高功率脉冲等离子体真空镀膜技术

  • 电源

    HiPIMS电源,P3E电源, 100KHz偏压电源

  • 设备

    高功率磁控PVD设备
    高能脉冲弧PVD设备、管道PECVD镀膜设备

  • 工艺

    DLC、CrN、CrTiN、TiSiCN、CrAlSiCN

产品及解决方案

应用案例

about us

关于新铂

公司简介

新铂科技(东莞)有限公司成立于2020 年底,是新铂科技的主要生产基地,具有4条组装生产线和5条检测调试线,厂房面积2000+,现有员工20+。是国内专业从事真空镀膜系统的研发、制造、销售为一体的国家级高新技术企业。其研发中心位于东莞市松山湖大学创新城,其研发人员均为硕士以上学历(其中博士6人),在相关领域发表学术论文300余篇。

  • 60%

    研发人员占比

  • 300+

    发布学术论文

  • 4.5星级

    客户好评

  • 50+

    课题合作研发

  • 20+

    定制开发项目

公司简介

企业荣誉

新闻中心



真空磁控溅射涂层技术与真空蒸发涂层技术的区别

天津真空磁控溅射涂层技术与真空蒸发涂层技术的区别

真空磁控溅射涂层技术不同于真空蒸发涂层技术。溅射是指核能颗粒轰击固体表面(目标),使固体原子或分子从表面射出的现象。...

  • 镀膜电源坏了如何进行维修?

    天津镀膜电源坏了如何进行维修?

    镀膜电源是一种广泛用于电镀设备中的电源装置,它主要负责供应电流和电压,控制电解质溶液中的离子浓度,保证电镀质量和工艺稳定性。如果镀膜电源坏了,会影响整个电镀设备的运行,因此及时进行修理。...

    2023-11-08 16:48:31   |   →
  • 镀膜电源一般应用在什么产品上

    天津镀膜电源一般应用在什么产品上

    镀膜电源是一种特殊的电源设备,广泛应用于各种需要镀膜的领域。以下是镀膜电源主要应用的一些产品: 光学产品:镀膜电源在光学产品制造中发挥着重要的作用。例如,眼镜片、相机镜头、望远镜等都需要进行镀膜处理以增强其光学性能。...

    2023-10-25 15:22:25   |   →
  • 镀膜工艺技术分类和理论

    天津镀膜工艺技术分类和理论

    镀膜工艺技术分为真空蒸发镀膜、电阻式蒸发镀膜、电子束蒸发镀膜等。 真空蒸发镀膜是把待镀膜的基片或工件置于高真空室内,通过加热使成膜材料气化(或升华)而淀积到基片或工件表面上,从而形成一层薄膜的工艺过程。...

    2023-10-12 16:36:44   |   →
  • 真空镀膜技术入门概念

    天津真空镀膜技术入门概念

    真空镀膜技术是一种在真空中制备薄膜材料的技术,它是材料科学、物理学、化学和工程技术的交叉领域。以下是对真空镀膜技术的一些基本概念的介绍:...

    2023-09-19 14:35:56   |   →

管道结垢难题有解了!DLC薄膜助力石油行业发展!

天津管道结垢难题有解了!DLC薄膜助力石油行业发展!

在石油行业,人们正在努力提高原油回收效率。例如,注入二氧化碳可以将原油的生产效率提高10%~15%。然而,随着石油产量的增加,也面临着更多的挑战,管道腐蚀是其中之一。对于二氧化碳增强采收率(EOR)技术,生产油水混合物因高压与二氧化碳过饱和而酸化,...

  • 镀膜电源是什么

    天津镀膜电源是什么

    镀膜电源是一种用于镀膜过程中的电力供应系统。它为镀膜工艺中的电解槽提供所需的电能,使金属离子在电解过程中沉积到基材上,形成一层薄膜。...

    2023-11-24 10:22:37   |   →
  • 管道结垢难题有解了!DLC薄膜助力石油行业发展!

    天津管道结垢难题有解了!DLC薄膜助力石油行业发展!

    在石油行业,人们正在努力提高原油回收效率。例如,注入二氧化碳可以将原油的生产效率提高10%~15%。然而,随着石油产量的增加,也面临着更多的挑战,管道腐蚀是其中之一。对于二氧化碳增强采收率(EOR)技术,生产油水混合物因高压与二氧化碳过饱和而酸化,...

    2023-07-18 08:46:00   |   →
  • 高引燃脉冲新HiPIMS模式下薄膜摩擦系数可降低到0.25

    天津高引燃脉冲新HiPIMS模式下薄膜摩擦系数可降低到0.25

    多层薄膜能显著改善复杂环境下部件的性能和寿命,为获得性能良好的膜层,研发团队提出了一种高引燃脉冲新HiPIMS放电技术。增加引燃脉冲的个数,强化了膜层的结合力,硬度以及摩擦磨损的性能。...

    2023-05-23 14:12:41   |   →
  • 新HiPIMS放电模式制备薄膜表面粗糙度仅为4.123nm

    天津新HiPIMS放电模式制备薄膜表面粗糙度仅为4.123nm

    为获得HiPIMS的高离化率-高沉积速率技术特征,我们在研究中提出一种新型的HiPIMS放电模式,即电-磁场协同增强HiPIMS技术,该技术以外置电场和磁场双场协同增强常规HiPIMS放电,增加溅射粒子离化率,改善薄膜的的沉积速率,制备的膜层性能优异。...

    2023-05-17 10:45:58   |   →

LINK 友情链接 : UL电线