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关于新铂
新铂科技（东莞）有限公司成立于2020 年底，是新铂科技的主要生产基地，具有4条组装生产线和5条检测调试线，厂房面积2000+，现有员工20+。是国内专业从事真空镀膜系统的研发、制造、销售为一体的国家级高新技术企业。其研发中心位于东莞市松山湖大学创新城，其研发人员均为硕士以上学历（其中博士6人），在相关领域发表学术论文300余篇。
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60%
研发人员占比
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300+
发布学术论文
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4.5星级
客户好评
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50+个
课题合作研发
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20+个
定制开发项目
企业荣誉
新闻中心
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天津对比阴极弧与HiPIMS对AlTiN沉积膜层的研究
目前制备硬质合金涂层主要可采用PVD方式，而PVD沉积除磁控放电外，还有阴极弧放电进行涂层PVD沉积，相比磁控，阴极弧放电结构简单，已广泛应用于各种涂层技术的制备，如装饰镀层，其工艺沉积速率快。随着工艺的要求逐渐提高，硬质合金涂层在硬度等方面提出了更高的要求，...
- 2022-10-26 00:00:00 | →
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天津6种靶材HiPIMS放电大不相同，设计工艺要知道!
HiPIMS放电，由于工作在放电曲线的特殊区域，其放电特性不仅依赖于使用的气压、电压，更依赖于靶材。更由于HiPIMS工作模式是脉冲工作，其放电特性具有时间特征，而表现出不同的放电特性。这里我们选用常用的几种靶材（Cu，Cr，Mo，Ti，V和C），给出了他们的放电特性。这种与时间相关的放电特性，对于工艺设计是非常重要的。...
- 2023-05-29 11:49:46 | →
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天津双脉冲HiPIMS比传统HiPIMS沉积速率提高近3倍
一种新型的高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术，即放电由脉宽短、电压高的引燃脉冲和脉宽长、电压低的工作脉冲2部分组成的双脉冲高功率脉冲磁控溅射技术，目的是解决传统高功率脉冲磁控溅射沉积速率低的问题。...
- 2023-05-10 10:03:28 | →
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天津HiPIMS中不同脉冲波形制备氧化铌薄膜
在Nb靶氧反应溅射时，用合适的HiPIMS脉冲波形可以抑制进气迟滞回线，在没有气体控制器下同样能保证工艺稳定性。...
- 2023-03-27 18:10:36 | →
天津HiPIMS自组织放电高分辨光谱影像学
因磁场约束，以及超高功率放电，高功率脉冲磁控溅射技术（HiPIMS）在放电过程中会存在局部放电增强而导致辉光闪烁的不稳定现象。当不稳定辉光存在时，其放电状态也有很大差异，辉光会形成不同的放电组织和斑图形式。伴随着这些增强型斑图辉光放电，其内部粒子成分放电状态如激发与电离存在差异，如何直观研究这些变化，高分辨光谱影像学是一种有效的手段，可直观观察不稳定区域的放电形式与变化。...
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天津高引燃脉冲新HiPIMS模式下薄膜摩擦系数可降低到0.25
多层薄膜能显著改善复杂环境下部件的性能和寿命，为获得性能良好的膜层，研发团队提出了一种高引燃脉冲新HiPIMS放电技术。增加引燃脉冲的个数，强化了膜层的结合力，硬度以及摩擦磨损的性能。...
- 2023-05-23 14:12:41 | →
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天津新HiPIMS放电模式制备薄膜表面粗糙度仅为4.123nm
为获得HiPIMS的高离化率-高沉积速率技术特征，我们在研究中提出一种新型的HiPIMS放电模式，即电-磁场协同增强HiPIMS技术，该技术以外置电场和磁场双场协同增强常规HiPIMS放电，增加溅射粒子离化率，改善薄膜的的沉积速率，制备的膜层性能优异。...
- 2023-05-17 10:45:58 | →
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天津 真空镀膜工艺流程
真空镀膜是一种常见的表面处理工艺，常用于制造光学镜片、太阳能电池板、LED等产品。其主要流程包括以下几个步骤： 1. 基材清洗：将待处理的基材表面进行清洗，以去除表面的油污、灰尘等杂质，确保表面干净。...
- 2023-04-10 11:18:26 | →
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