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如何选择适合的真空镀膜材料？
光学性能需求：若要提高镜片的透光率，可选择二氧化硅（SiO₂）、二氧化钛（TiO₂）等具有特定折射率和低吸收特性的材料来制作增透膜。若是制备光学反射镜，则可选用铝（Al）、银（Ag）等具有高反射率的金属材料。
高功率脉冲磁控溅射HiPIMS的独特优势与多样化应用
高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）作为一种薄膜制备技术，近年来在材料科学与工程领域崭露头角。HiPIMS通过在传统磁控溅射基础上施加高功率脉冲电源，实现了对溅射过程的控制，从而展现出一系列独特优势。
离子镀膜离子能量怎样影响膜层？
在离子镀膜过程中，离子能量作为关键参数，对膜层结构与性能有着举足轻重的影响。当离子能量较低时，离子抵达基体表面时动能不足，无法在表面充分扩散迁移，致使膜层晶粒细小，结构呈现疏松多孔的柱状生长形态
