真空镀膜技术与湿法镀膜技术相比，具有以下优点:(1)膜材和基片材料选择广泛，膜厚可控制，可制备多种功能不同的功能膜。
真空镀膜原理:1. 物理气相沉积技术是指利用各种物理方法，在真空条件下汽化成原子和分子或电离成离子，将电镀材料直接沉积在基材表面的方法。
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