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真空镀膜电源为什么一定要接地?

真空镀膜电源之所以需要接地是为了确保安全性和保护设备运行的稳定性。

镀膜电源坏了如何进行维修?

镀膜电源是一种广泛用于电镀设备中的电源装置,它主要负责供应电流和电压,控制电解质溶液中的离子浓度,保证电镀质量和工艺稳定性。如果镀膜电源坏了,会影响整个电镀设备的运行,因此及时进行修理。

镀膜电源一般应用在什么产品上

镀膜电源是一种特殊的电源设备,广泛应用于各种需要镀膜的领域。以下是镀膜电源主要应用的一些产品:
光学产品:镀膜电源在光学产品制造中发挥着重要的作用。例如,眼镜片、相机镜头、望远镜等都需要进行镀膜处理以增强其光学性能。

镀膜工艺技术分类和理论

镀膜工艺技术分为真空蒸发镀膜、电阻式蒸发镀膜、电子束蒸发镀膜等。
真空蒸发镀膜是把待镀膜的基片或工件置于高真空室内,通过加热使成膜材料气化(或升华)而淀积到基片或工件表面上,从而形成一层薄膜的工艺过程。

真空镀膜技术入门概念

真空镀膜技术是一种在真空中制备薄膜材料的技术,它是材料科学、物理学、化学和工程技术的交叉领域。以下是对真空镀膜技术的一些基本概念的介绍:

HIPiMS技术高能磁控电源输出线有什么注意事项?

 一、电源输出线离腔体尽量近,电源线尽量短为了保证脉冲电流波形引入到真空腔体时波形不畸变,且衰减小。期望在系统中,脉冲电镀电源与真空腔体的距离2-3m为佳,长线易对脉冲电流波形的上升、下降沿产生较大的影响,真空腔体打火时,灭弧效果有影响。二、正负极导线使用同轴线缆或者双绞屏蔽脉冲电源的输出衔接,导线间的电感效应越小越好。因而阴、阳极导线最好的办法就是同轴无感线缆。

耗散功率竟然能影响铜溅射等离子体的行为!

本文研究了在铜溅射等离子体中耗散功率对其影响的实验结果。通过光发射光谱技术进行测量,探讨了耗散功率对铜溅射等离子体的物理特性和行为的影响。
通过实验结果发现,耗散功率的增加导致铜溅射等离子体中的电子温度和密度的增加。此外,还观察到了溅射过程中的辐射特性和粒子输运行为的变化。

一文读懂溅射沉积技术

溅射镀膜是指在真空室中,利用荷能粒子轰击靶材表面,通过粒子动量传递打出靶材中的原子及其它粒子,并使其沉淀在基体上形成薄膜的技术。溅射镀膜技术具有可实现大面积快速沉积,薄膜与基体结合力好,溅射密度高、针孔少,膜层可控性和重复性好等优点,而且任何物质都可以进行溅射,因而近年来发展迅速,应用广泛。