一文读懂溅射沉积技术

溅射镀膜是指在真空室中，利用荷能粒子轰击靶材表面，通过粒子动量传递打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基体上形成薄膜的技术。溅射镀膜技术具有可实现大面积快速沉积，薄膜与基体结合力好，溅射密度高、针孔少，膜层可控性和重复性好等优点，而且任何物质都可以进行溅射，因而近年来发展迅速，应用广泛。

真空镀膜和电镀的区别

真空镀膜和电镀都是常见的表面处理技术，用于改善物体外观和性能。它们有一些共同点，但也存在着一些明显的区别。下面我将详细介绍这两种技术的区别。

HiPIMS：简单的方法就能调控磁控溅射中的金属/气体离子比？

1）磁控溅射：HiPIMS中简单的脉宽变化，就能调控膜层中的金属/气体离子比。

2）常规的磁控靶换成HiPIMS电源就可以达到上述效果。

新铂科技参加2023国际新材料展

2023年6月27-29日，在深圳国际会展中心20号馆举办了2023国际新材料展(MATERIALS.CN)

不平凡的钒靶HiPIMS（放电区直径约３０ｍｍ放电电流达１４０Ａ）

金属钒（V）作为一种高熔点的稀有金属材料，常与铌、钽、钨、钼并称为难熔金属。金属钒具有耐盐酸和硫酸的性能，并且耐气-盐-水腐蚀的性能要比大多数不锈钢好。在某些特殊的重要场合，金属V薄膜常被用来作为高温隔离防护涂层，因此开展V靶HIPIMS放电特性方面的研究工作具有重要的意义。

HiPIMS，低温ITO沉积的机会！

6种靶材HiPIMS放电大不相同，设计工艺要知道!

HiPIMS放电，由于工作在放电曲线的特殊区域，其放电特性不仅依赖于使用的气压、电压，更依赖于靶材。更由于HiPIMS工作模式是脉冲工作，其放电特性具有时间特征，而表现出不同的放电特性。这里我们选用常用的几种靶材（Cu，Cr，Mo，Ti，V和C），给出了他们的放电特性。这种与时间相关的放电特性，对于工艺设计是非常重要的。

高引燃脉冲新HiPIMS模式下薄膜摩擦系数可降低到0.25

多层薄膜能显著改善复杂环境下部件的性能和寿命，为获得性能良好的膜层，研发团队提出了一种高引燃脉冲新HiPIMS放电技术。增加引燃脉冲的个数，强化了膜层的结合力，硬度以及摩擦磨损的性能。