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镀膜工艺生产和质量控制要点
早期真空镀膜是依靠蒸发体自然散射，结合差工效低光泽差。现在加上中频磁控溅射靶用磁控射靶将膜体的蒸发分子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜，解决了过去自然蒸发无法加工的膜体品种，如镀钛镀锆等等。
HiPMS利器新应用-高熵合金薄膜制造
高熵合金氮化物薄膜是一种基于高熵合金设计理念的产物，在热力学和动力学上可以分别具有更低的吉布斯自由能和更小的元素扩散速率，抑制了金属间化合物有序相的生成，促进简单固溶体结构甚至非晶相的形成。
高功率脉冲磁控溅射技术简介（下）
在磁控溅射技术中，可以通过控制沉积参数的变化，转移到成膜粒子的能量，从而调控薄膜性质28。在为生长膜提供能量的各种方法中，电离物质的轰击被广泛使用29,30。
HiPIMS利器新应用-高熵合金薄膜制造
高熵合金氮化物薄膜是一种基于高熵合金设计理念的产物，在热力学和动力学上可以分别具有更低的吉布斯自由能和更小的元素扩散速率，抑制了金属间化合物有序相的生成，促进简单固溶体结构甚至非晶相的形成。
采用脉冲直流PECVD工艺在长管内沉积DLC膜层
管道作为一种流体运输工具，管道内表面经常暴露在复杂的介质中。这些流体中存在的污染物或腐蚀性元素会导致管道内壁腐蚀破损，每年都会造成巨大的经济损失。