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对比阴极弧与HiPIMS对AlTiN沉积膜层的研究
目前制备硬质合金涂层主要可采用PVD方式，而PVD沉积除磁控放电外，还有阴极弧放电进行涂层PVD沉积，相比磁控，阴极弧放电结构简单，已广泛应用于各种涂层技术的制备，如装饰镀层，其工艺沉积速率快。随着工艺的要求逐渐提高，硬质合金涂层在硬度等方面提出了更高的要求，
利用阳极层离子源在管道内壁制备类金刚石涂层
阳极层离子源由于其简单性和将气体转变为离子束的能力而被广泛研究，其主要功能是在使用期间360°范围内连续产生离子束。通过简单地沿着直管或弯管牵引离子源就可以实现管道内壁涂层的制备。利用传统的物理气相沉积如直流/射频磁控溅射和PLD方法制备的类金刚石（DLC）涂层通常包含结构缺陷，如针孔、孔洞和裂纹。
阴极弧放电不同反应气体等离子体对阴极的腐蚀研究
阴极弧放电已被经常用于沉积不同的金属膜，除常用的Ar用于直接溅射靶材沉积相应的金属薄膜外，含氮、含氧的薄膜也经常在沉积过程中通过掺入O2和N2进行放电来获得。不同于单质Ar等离子体放电，N2与O2属于反应性气体，等离子体过程更加复杂，因此在阴极弧表面形成不同的放电形式。
真空镀膜技术的基本原理
真空镀膜技术的基本原理
真空镀膜技术是气相物理沉积的方法之一，也称为真空镀膜。在真空条件下，涂层材料被蒸发器加热升华，蒸发的颗粒直接流向基底，在基底表面沉积一层固体薄膜。
请问，HiPIMS高能磁控电源输出线有什么注意事项？
请问，HiPIMS高能磁控电源输出线有什么注意事项？
一、电源输出线离腔体尽量近，电源线尽量短
为了保证脉冲电流波引入到真空腔体时波形不畸变，且衰减小。期望在系统中，脉冲电镀电源与真空腔体的距离2-3m为佳，长线易对脉冲电流波形的上升、下降沿产生较大的影响，真空腔体打火时，灭弧效果有影响。
镀膜工艺生产和质量控制要点
早期真空镀膜是依靠蒸发体自然散射，结合差工效低光泽差。现在加上中频磁控溅射靶用磁控射靶将膜体的蒸发分子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜，解决了过去自然蒸发无法加工的膜体品种，如镀钛镀锆等等。
