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真空镀膜过程中可能出现哪些缺陷
针孔是真空镀膜中较为常见的问题。这主要是由于镀膜材料在沉积过程中，基片表面的微小杂质、灰尘或者气体残留所导致。例如，在蒸发镀膜时，如果基片清洗不够彻底，表面残留的颗粒会使镀膜材料在其周围无法均匀沉积，形成针孔。
高能脉冲PVD技术相比传统PVD有何优势？
致密度更高：高能脉冲PVD在沉积过程中，能够产生高密度的等离子体，使沉积粒子具有更高的能量，从而在基底上形成更致密的膜层。例如，在制备硬质涂层时，其形成的膜层结构更加紧密
高能脉冲PVD技术可以制备哪些膜层？
如氮化钛（TiN）膜层。TiN具有高硬度、良好的耐磨性和化学稳定性。在刀具涂层领域应用广泛，通过高能脉冲PVD技术制备的TiN膜层，能够显著提高刀具的使用寿命。
2024大湾区高能脉冲PVD高峰论坛在松山湖材料实验室成功举办
12月14日，由松山湖材料实验室、哈尔滨工业大学材料结构精密焊接与连接全国重点实验室以及等离子体放电团队孵化的高能脉冲PVD电源企业新铂科技(东莞)有限公司联合主办的“2024大湾区高能脉冲PVD高峰论坛”在松山湖材料实验室会议中心成功举行。
2024大湾区高能脉冲PVD论坛在莞举行
12月14日，“2024大湾区高能脉冲PVD论坛”在松山湖材料实验室举办。此次论坛由松山湖材料实验室、材料结构精密焊接与连接全国重点实验室联合举办，由高能脉冲PVD电源的领军企业新铂科技东莞有限公司提供支持。
250多名高能脉冲PVD专家齐聚东莞，共探技术产业融合路径
12月14日，来自高校、中国科学院、企业的250多名代表齐聚东莞“2024大湾区高能脉冲PVD高峰论坛”，共同研讨高能脉冲PVD（真空镀膜）领域的研究成果和未来发展趋势。论坛由松山湖材料实验室、材料结构精密焊接与连接全国重点实验室、新铂科技（东莞）有限公司联合举办。
2024大湾区高能脉冲 PVD 高峰论坛成功举办，引领行业前沿发展
2024年12月14日，备受瞩目的高能脉冲PVD高峰论坛在东莞松山湖材料实验室盛大召开。
本次论坛汇聚了北京大学、清华大学、浙江大学、中科院固体所、华南理工大学、哈尔滨工业大学、澳门大学、香港城市大学、季华实验室以及华为、华星光电等250多位国内该领域的专家、学者以及企业代表，共同探讨高能脉冲PVD技术的进展与未来趋势，为行业的发展注入了新的活力与智慧。