短时多脉冲HiPIMS技术&低偏压、低应力的DLC薄膜

DOMS（短时多脉冲HiPIMS技术）的18个连续短振荡显著减少了离子回吸，并利用脉冲间残留等离子体促进再点燃，使到达基底的碳离子流密度提高至4倍，从而实现离子辅助沉积。

同步浮置电位HiPIMS工艺&实现薄膜在绝缘基底上的低温沉积

为制造“镀”牢硬核基座，资深专家学者松山湖共论PVD产业创新

2025年先 进等离子体气相沉积技术会议暨第二届大湾区高能脉冲PVD论坛

新铂科技助力东莞长安镇真空镀膜产业迈向新高地

2025年11月12日，“长安镇真空镀膜企业科技赋能研讨会”（科技+产业方舟系列活动）在东莞市长安国际酒店成功举行。本次会议由东莞市长安镇经济发展局与松山湖材料实验室联合主办，新铂科技（东莞）有限公司与平安银行东莞分行共同协办

同步偏压配合HiPIMS能有什么神奇的化学反应呢？

HiPIMS技术广泛用于硬质涂层与金属薄膜沉积，在TiAlN、CrAlTiN等耐磨耐高温陶瓷涂层制备中表现成熟。该工艺通常需施加−100 V以上的基底偏压，以增强吸附原子迁移率并借助高能离子引发次注入效应，从而形成致密且力学性能的薄膜。然而，高偏压会同步加速工艺气体离子进入薄膜间隙位置，引入较高的压缩应力，成为该技术的主要局限。而同步偏压的出现，让我们看到了突破希望。

新铂科技推出“Hipims+arc”一体的电源模式：Himsarc

新铂科技出席了2025年8月19-22在苏州召开的30届国际热处理和表面工程大会，公司CTO做了“power supply of High power impulse magnetron sputtering and recent applications”的主旨报告，对于国内外的嘉宾分享了我们在Hipims研究领域包括电源和应用端的新进展。

真空镀金专用高能脉冲磁控电源

新铂公司CTO 2025年8月24日赴东莞麻涌镇豪丰环保产业园参加了“电镀金新技术”专题研讨会，交流了真空镀金的高能脉冲溅射电源及应用技术。