1
新闻中心

HIPIMS技术沉积TiSiN纳米复合涂层探究

HIPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering,高功率脉冲磁控溅射)薄膜沉积方法,它在沉积TiSiN纳米复合涂层方面展现出显著的优势。与传统的直流磁控溅射(DCMS)技术相比,

hipims脉冲电源与DC优势

HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)脉冲电源与DC(Direct Current)电源相比,在多个方面展现出显著的优势。以下是对这些优势的详细分析:

hipims脉冲电源控制模式

HIPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)脉冲电源控制模式是一种在薄膜沉积技术中广泛应用电源控制方式。

真空镀膜时为什么要用到高纯气体

真空镀膜时用到高纯气体的原因,可以归结为以下几点,下面将进行详细阐述:
一、减少杂质影响,提升薄膜质量

HIPIMS技术在金属双极板涂层中的应用

HIPIMS技术,即高功率脉冲磁控溅射技术(High Power Impulse Magnetron Sputtering),在金属双极板涂层中的应用具有显著的优势

真空镀膜工艺流程:技术概述、参数控制与质量影响

 真空镀膜工艺是一种常用的表面处理技术,可以在材料表面形成一层高质量、均匀的薄膜。其工艺流程包括清洗、加热、真空抽气、沉积、

利用HiPIMS制备出的Ti-Si-N薄膜硬度可以达到66GPa!

Ti-Si-N是被认为是一种高硬度的膜层,Veprek(1999)提出了一种结构模型,认为是非晶包含纳米晶结构。这有点类似于我们见到的沥青和石头混合路面结构。这里的纳米晶尺寸和非晶含量的多少是很讲究的。

HiPIMS技术解决碳基涂层

HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)技术是一种先进的物理相沉积(PVD)技术,广泛用于解决碳基涂层的相关问题。碳基涂层是一种重要的功能性涂层,应用于各种工业领域,包括刀具、模具、汽车零部件等。下面将详细介绍HiPIMS技术如何解决碳基涂层的问题。