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真空蒸镀法与溅射镀膜技术介绍
真空蒸镀法与溅射镀膜技术不同区别的介绍
一、真空蒸镀法
真空蒸镀是将装有基片的真空室抽成真空,然后加热被蒸发的镀料,使其原子或分子从表面气化逸出,形成蒸气流,入射到基片表面,凝结形成固体薄膜的技术.
镀膜工艺中的镀膜界表面预处理是为了什么？
我们都知道纳米颗粒由于具有大的表面能，拥有自聚集效应。在一个平坦的表面，表面堆积一层纳米颗粒，随着温度的上升，一般可能会出现纳米颗粒之间的聚集和相互作用。而后才与平坦表面发生作用。经典测试表明，金属之间的互扩散需要达到材料熔点的80%。
利用阳极层离子源在管道内壁制备类金刚石涂层
阳极层离子源由于其简单性和将气体转变为离子束的能力而被广泛研究，其主要功能是在使用期间360°范围内连续产生离子束。通过简单地沿着直管或弯管牵引离子源就可以实现管道内壁涂层的制备。利用传统的物理气相沉积如直流/射频磁控溅射和PLD方法制备的类金刚石（DLC）涂层通常包含结构缺陷，如针孔、孔洞和裂纹。
HiPMS利器新应用-高熵合金薄膜制造
高熵合金氮化物薄膜是一种基于高熵合金设计理念的产物，在热力学和动力学上可以分别具有更低的吉布斯自由能和更小的元素扩散速率，抑制了金属间化合物有序相的生成，促进简单固溶体结构甚至非晶相的形成。
高功率脉冲磁控溅射技术简介（下）
在磁控溅射技术中，可以通过控制沉积参数的变化，转移到成膜粒子的能量，从而调控薄膜性质28。在为生长膜提供能量的各种方法中，电离物质的轰击被广泛使用29,30。