高功率磁控溅射(HiPIMS) 制备ITO柔性膜

一、什么是ITO？

掺锡氧化铟（IndiumTinOxide），简称为ITO，ITO薄膜由In2O3:SnO2=9:1构成。

二、ITO膜有什么用？

由于材料本身特定的物理化学性能，ITO薄膜具有良好的导电性和可见光区较高的光透过率。它是液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、电致发光显示器（EL/OLED）、触摸屏（TouchPanel）、太阳能电池以及其他电子仪表的透明电极常用的薄膜材料。

二、柔性基材制备ITO膜

柔性基材（如透明塑料：PC、PET等）制备ITO膜的前景非常广阔。随着柔性电子设备的快速发展，柔性基材制备ITO膜的需求量不断增加。柔性基材制备ITO膜具有许多优点，如轻便、可折叠、可穿戴等，可以广泛应用于柔性显示器、柔性太阳能电池、柔性电子纸等领域。

三、磁控溅射制备ITO膜

磁控溅射制备的涂层均匀、成膜快、加工稳定，因此大多数实际项目采用磁控溅射制备ITO涂层。

在通常的ITO涂层制备过程中，基材温度至少在200℃以上，后续退火处理保证了光电性能和结合强度。由于柔性材料不耐热，除尘机温度要求低于100°C。因此，柔性基材制备的ITO涂层的光电性能和结合强度不够好。

四、HiPIMS制备ITO膜

与磁控溅射相比，HiPIMS (高功率脉冲磁控溅射)具有高电离率和高离子电流密度，见图1所示，HIPIMS放电In的激发态和离子态峰强显著增高，同时可观察到777.11nm位置激发态O峰。由此在涂层上产生高密度轰击离子，制备的ITO涂层在低于100℃的温度下具有更好的质量。

五、ITO柔性膜未来与挑战

柔性基材制备ITO膜有望成为一种低成本、环保的制备技术，为柔性电子设备的发展提供有力支持。

柔性基材制备ITO膜仍存在一些挑战，如如何提高其光电性能、机械性能和稳定性等。因此，未来仍需要不断探索新的制备技术和方法，以实现更、更稳定、更低成本的柔性基材制备ITO膜。