HIPIMS是高功率脉冲磁控溅射技术（High power impulse magnetron sputtering）的简称，其原理是利用较高的脉冲峰值功率和较低的脉冲占空比来产生高溅射金属离化率的一种磁控溅射技术。

HiPIMS-400A 是由新铂科技打造的一款适用于高校镀膜实验需求的真空镀膜电源，可直流+脉冲组合输出，脉冲峰值电流高，具有高离化率，放电密度大、粒子能量高、反应活性好。可作为直流磁控溅射电源的升级替代方案，无需改动即可用于现有磁控系统。抗腐蚀、耐磨损的硬质镀膜工艺中，高功率脉冲磁控溅射应用是首选。

产品特点：

多波形设置，具有反向抑弧能力，膜层更细腻。

特别适合于高校PVD创新工艺的多波形设定。

可手机远程监视和控制，调节各种参数，远程关闭电源，监控电源运行情况。

画面完全同步，指令反馈迅速且精准。走路、吃饭均可控之方便，甚至实验中途去洗手间也会更从容。